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硅片清洗用水生產(chǎn)少不了超純水設(shè)備

2022-11-22

  半導(dǎo)體材料和設(shè)備作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游的產(chǎn)業(yè),屬于芯片制造和封裝測試的支撐產(chǎn)業(yè),因此常被稱為整個行業(yè)的“賣鏟人”。作為半導(dǎo)體材料的大宗產(chǎn)品,90%以上的半導(dǎo)體產(chǎn)品由硅片制成,因此市場需求非常大。2021年全球半導(dǎo)體硅芯片出貨面積將達(dá)到142億平方英寸,市場規(guī)模將達(dá)到140億美元。(數(shù)據(jù)來源:賢集網(wǎng))

超純水設(shè)備

  硅片清洗是生產(chǎn)的重要組成部分。同時,應(yīng)使用無雜質(zhì)的超純水進行清洗。超純水設(shè)備出口電阻率高,無雜質(zhì),無導(dǎo)電性。在硅片清洗超純水設(shè)備的設(shè)計中,采用了兩級反滲透和EDI相結(jié)合的制水工藝,具有水利用率高、運行可靠、經(jīng)濟合理的特點。與傳統(tǒng)方法相比,該工藝具有以下優(yōu)點:

  1、再生不需要再生化學(xué)品。EDI超純水設(shè)備在運行過程中不需要添加任何化學(xué)品,降低了系統(tǒng)運行成本。

  2、不需要中和劑。EDI超純水設(shè)備運行期間,不會產(chǎn)生酸堿廢液,因此不需要酸堿中和槽。通常,EDI超純水設(shè)備產(chǎn)生的濃縮水可以完全回收。

  3、整個系統(tǒng)的運行成本低。EDI超純水設(shè)備主要消耗電力來維持系統(tǒng)運行,其功耗低于傳統(tǒng)的混床工藝。

  4、水資源利用率高。與混床工藝相比,EDI超純水設(shè)備的利用率可達(dá)95~99%,有效提高了水資源的利用率。

  5、EDI超純水設(shè)備無需更換樹脂即可連續(xù)工作,無需人工操作,自動化性能強。

  6、EDI超純水設(shè)備設(shè)計緊湊,占地面積小,安裝方便。

  隨著國家政策支持力度的不斷加大,硅片行業(yè)對超純水的需求也在不斷增加。萊特萊德超純水設(shè)備出水電導(dǎo)率高達(dá)18MΩ·CM(25℃)。我們的目標(biāo)是為用戶提供高品質(zhì)的超純水設(shè)備和實用解決方案。

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