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半導(dǎo)體超純水系統(tǒng)確保半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中清洗水質(zhì)量

2022-07-26

  半導(dǎo)體是科技進步的生命,今年半導(dǎo)體和電子元件領(lǐng)域的資金十分受歡迎,原因有二:

  一、因為生產(chǎn)能力供貨不夠,尤其是車輛和半導(dǎo)體領(lǐng)域的要求持續(xù)增長,半導(dǎo)體領(lǐng)域的產(chǎn)品報價大幅度增漲。

  二、由于高端技術(shù)仍被美國公司所壟斷,這為國內(nèi)替代品相關(guān)公司取代替代品市場提供了一波機會,致使國內(nèi)電子行業(yè)的繁榮不斷上升。

  幾乎所有半導(dǎo)體生產(chǎn)過程都需要超純水清洗。工件與水直接接觸,水質(zhì)達不到標準水中微量雜質(zhì)會再次污染芯片,對產(chǎn)品的影響不言而喻。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進步,半導(dǎo)體生產(chǎn)對水中污染物的要求越來越高。自20世紀60時期末美國五家企業(yè)明確提出半導(dǎo)體超純水水質(zhì)指標至今,半導(dǎo)體中的殘渣每一代都需要降低1/2~1/10。1983年和1990年美國測試與材料學(xué)會發(fā)布的電子水質(zhì)標準已不能滿足超大規(guī)模半導(dǎo)體快速發(fā)展的需要。現(xiàn)階段,ASTM明確提出了新的更嚴苛的水質(zhì)指標。

超純水設(shè)備

  “RO+EDI+混床”加工工藝與傳統(tǒng)式純水工藝處理基本一致。通過嚴苛預(yù)備處理后,原水進到RO超濾膜系統(tǒng)軟件,出水量馬上送至EDI設(shè)備。此時出水已達到一般工業(yè)用超純水的要求,再經(jīng)過處理混床深度處理,確保出水無雜質(zhì),達到18兆歐電子超純水標準。

  EDI是融合質(zhì)子交換膜技術(shù)性和正離子電轉(zhuǎn)移技術(shù)性的超純水生產(chǎn)技術(shù)。它不需要酸堿再生。這也是一種新的除鹽方式 。EDI超純水設(shè)備用以生產(chǎn)制造純水,不用再造化工品,運作低成本。EDI系統(tǒng)自動化程度高,可以連續(xù)工作。出水量水體優(yōu)良平穩(wěn),出水量電阻低≥15mΩ·cm。融合其他預(yù)備處理加工工藝和混床工藝處理,出水量電阻可達18.2mΩ·cm,做到工業(yè)電子超純水規(guī)范。

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