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超純水設(shè)備生產(chǎn)出的水為何可以提高半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)質(zhì)量

2024-03-07

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)的重要組成部分,近年來(lái)發(fā)展迅速。我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的主要產(chǎn)品包括芯片、半導(dǎo)體器件、半導(dǎo)體材料等,應(yīng)用范圍廣泛,包括計(jì)算機(jī)、通信、消費(fèi)電子、汽車(chē)、工業(yè)控制等領(lǐng)域。我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展經(jīng)歷了從引進(jìn)到自主研發(fā)的過(guò)程,現(xiàn)在已經(jīng)具備了一定的技術(shù)實(shí)力和規(guī)模優(yōu)勢(shì),除了國(guó)內(nèi)市場(chǎng)外,還積極發(fā)展海外市場(chǎng)。

  半導(dǎo)體清潔程度對(duì)于產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要,能直接影響到產(chǎn)品的安全性和可靠性。半導(dǎo)體清潔不徹底會(huì)導(dǎo)致晶圓表面的雜質(zhì)含量增加,從而影響到電子元件的工作性能和壽命。在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,常常會(huì)進(jìn)行蝕刻、切割、焊接等工藝,會(huì)造成半導(dǎo)體表面產(chǎn)生各種雜質(zhì)。這些雜質(zhì)成分的清洗需要采用到高純度的超純水,才能避免對(duì)半導(dǎo)體造成污染。

超純水設(shè)備

  超純水成分簡(jiǎn)單,除了氫原子和氧原子之外,基本不含有任何有機(jī)物、金屬離子、鹽分、細(xì)菌和微生物。應(yīng)用超純水清洗半導(dǎo)體不但可以去除半導(dǎo)體表面的污垢,也不用擔(dān)心對(duì)其造成腐蝕和污染。超純水設(shè)備是生產(chǎn)這種超純水的專用設(shè)備,采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術(shù)工藝,生產(chǎn)超純水連續(xù)穩(wěn)定,生產(chǎn)過(guò)程無(wú)污染、能耗低。

  反滲透膜可以有效分離去除超純水中除了氫氧原子之外的雜質(zhì)成分,是一種物理分離方式。EDI技術(shù)能實(shí)現(xiàn)帶電荷運(yùn)行,加快離子遷移速度,實(shí)現(xiàn)超純水深度脫鹽。拋光混床工藝處理有力保障超純水設(shè)備出水質(zhì)量,使出水質(zhì)量達(dá)到18MΩ*cm(25℃)。

  超純水設(shè)備生產(chǎn)超純水質(zhì)量可靠,應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)中能確保產(chǎn)品質(zhì)量,降低產(chǎn)品報(bào)廢率,從而提高半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的整體效益,對(duì)促進(jìn)我國(guó)半導(dǎo)體科技發(fā)展有重要價(jià)值。

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  編輯:新奇   技術(shù):加菲

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