制造半導(dǎo)體需要經(jīng)過8個(gè)主要步驟。超純水主要用于半導(dǎo)體制造過程中的某些步驟前后的清洗。比如，蝕刻后，切割晶片，然后用超純水清洗殘留物。另外，離子注入后，可以清除殘留離子。另外，也可以用來對(duì)晶片進(jìn)行拋光和切割。?

　　超純水是在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中使用的一種清潔劑。所以，使用超純水對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)有什么影響呢?采用納米超精細(xì)工藝加工半導(dǎo)體時(shí)，如果在不同工藝過程中留有一小粒粒子，將引起誤差。所以，在不同的工藝中，用超純水清洗晶片，能夠保證潔凈度，并提高半導(dǎo)體的生產(chǎn)率(輸出)。

　　伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，對(duì)潔凈水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do、微粒的要求也越來越高。在很多方面，超純水對(duì)半導(dǎo)體提出了很高的要求，所以在半導(dǎo)體工業(yè)中，超純水和其他行業(yè)是不一樣的。在超純水領(lǐng)域，半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)水質(zhì)要求非常嚴(yán)格。當(dāng)前，國(guó)內(nèi)普遍采用的超純水標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-2013)和國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)“電子級(jí)水”。

　　硼是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中的一種p型雜質(zhì)。過多將導(dǎo)致n型硅倒轉(zhuǎn)，從而影響電子和空穴的濃度。在超純水工業(yè)中，對(duì)硼的去除應(yīng)該給予足夠的重視。在硼離子美標(biāo)中，e1.3要求小于0.05。當(dāng)硼離子含量達(dá)到較低的指標(biāo)時(shí)，半導(dǎo)體性能必然得到改善。

　　Huncotte系統(tǒng)選用核級(jí)樹脂，通過獨(dú)特的目標(biāo)離子交換樹脂，能有效地控制出水中硼離子含量。用IPC-MS法測(cè)定硼離子含量，對(duì)硼離子流出物的分析≤0.005μG/L，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于美標(biāo)E1.3中所要求的硼離子含量。