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硼是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中的一種P型雜質(zhì)，過量會(huì)使N型硅反轉(zhuǎn)，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水行業(yè)中應(yīng)充分考慮去除硼。...

現(xiàn)在的超純水生產(chǎn)工藝大多采用反滲透設(shè)備+EDI+拋光混床，無需再生藥劑，有效降低了運(yùn)行成本。汽車芯片用超純水設(shè)備生產(chǎn)的水質(zhì)電阻率可以達(dá)到18MΩ·CM，滿足汽車芯片用水的需求。...

經(jīng)過多年實(shí)踐，萊特萊德結(jié)合采用反滲透、EDI裝置結(jié)合拋光混床的模塊化設(shè)計(jì)工藝制備超純水，其水電阻率高達(dá)18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環(huán)保、經(jīng)濟(jì)、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)點(diǎn)...

鋰電池超純水設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超凈化處理和后處理方法，幾乎完全去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，并將水中的非游離膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物去除到很低的程度。...

半導(dǎo)體行業(yè)在生產(chǎn)的時(shí)候需要大量的清洗水，隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)清洗水的電導(dǎo)性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴(yán)格。...

超純水設(shè)備作為芯片生產(chǎn)過程中的標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備，通常采用反滲透水處理設(shè)備、電離子(EDI)設(shè)備和拋光混合床制造超純水，使其出水滿足芯片生產(chǎn)用水的需求，成為芯片產(chǎn)業(yè)復(fù)興的堅(jiān)強(qiáng)后盾。...