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電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備履行保護晶圓純度的職責(zé)

2022-07-26

  晶圓是指用于制造硅半導(dǎo)體電路的硅片。它的原材料是硅。將高純度多晶硅溶解,與硅晶種混合,然后緩慢拉出,形成圓柱形單晶硅。經(jīng)過研磨、拋光和切片后,形成硅晶圓片,即硅片。晶圓的主要加工方法是片加工和批加工,即一個或多個晶圓同時加工。隨著半導(dǎo)體的特征尺寸越來越小,加工和測量設(shè)備越來越高科技,晶圓加工中出現(xiàn)了新的數(shù)據(jù)特征。同時,特征尺寸的減小增加了空氣中顆粒數(shù)量對晶圓加工質(zhì)量和可靠性的影響。隨著清潔度的提高,顆粒數(shù)量也呈現(xiàn)出新的數(shù)據(jù)特征。晶圓成品率的提高直接關(guān)系到芯片的市場競爭力。

超純水設(shè)備

  提高晶圓產(chǎn)量可以從清潔水質(zhì)開始。超純水是精密元器件生產(chǎn)質(zhì)量的重要保證。目前,電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備大多采用反滲透+EDI+拋光混床的生產(chǎn)工藝。這是一種環(huán)境友好、經(jīng)濟且有潛力的超純水制備工藝。與傳統(tǒng)超純水制備工藝相比,該工藝再生不需要回收化學(xué)品。EDI水處理工藝不需要添加任何化學(xué)品,減少了化學(xué)品的運輸,降低了系統(tǒng)的運行成本。不需要中和劑。EDI膜塊不產(chǎn)生酸堿廢液,不需要酸堿中和罐。EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)生的濃縮水一般可以回收利用。整個系統(tǒng)的運行成本較低。EDI電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備主要消耗電力維持系統(tǒng)運行,低于傳統(tǒng)混床工藝。水資源利用率高。與混床工藝相比,EDI電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備的水利用率可達95~99%,有效提高了水資源的利用率。EDI電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備無需更換樹脂即可連續(xù)工作,自動化程度高,無需人工操作。EDI電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,安裝方便。

  電子晶圓行業(yè)超純水設(shè)備目前正從晶圓的基礎(chǔ)水開始,履行保護晶圓純度的職責(zé),持續(xù)穩(wěn)定地制備滿足晶圓生產(chǎn)需要的超純水,產(chǎn)水電導(dǎo)率可達18MΩ·CM(25℃)。

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