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超純水——沒有它,有光刻機(jī)也造不出芯片

2023-02-11

  你可能不知道,芯片是洗澡洗出來的。在芯片制作的過程中,光刻機(jī)是非常重要的一個(gè)設(shè)備,沒有光刻機(jī)將無法正常生產(chǎn)芯片,而光刻機(jī)在全球都是壟斷地位的。雖然光刻機(jī)如此重要,但是,沒有它也造不出芯片。

  芯片的制造條件十分苛刻,芯片制造有上千道工序,即使保證每道工序的良品率是99%,那么在上千道工序的累計(jì)下,芯片的總良品率一定會(huì)慘不忍睹。所以,在芯片制造的過程中,有30%的時(shí)間都在做一件事情,就是“洗澡”,專業(yè)名詞叫濕法清洗。

  當(dāng)然,給芯片清洗的水不能是自來水,因?yàn)樽詠硭锏慕饘匐x子會(huì)影響硅片的閾值電壓,溶解氣體會(huì)干擾硅片的氧化覆膜,細(xì)菌有機(jī)物會(huì)導(dǎo)致硅片短路漏電。因此,需要用超純水對芯片進(jìn)行清洗。

EDI超純水系統(tǒng)

  清洗步驟貫穿芯片制造過程中的許多工藝環(huán)節(jié)。清潔技術(shù)將持續(xù)到芯片開發(fā)完成為止。早在20世紀(jì)50年代,半導(dǎo)體制造業(yè)就開始關(guān)注清洗技術(shù),其重要性將越來越高,市場需求將越來越大。隨著工藝技術(shù)的進(jìn)步,光刻和各種工藝的數(shù)量激增,清洗步驟的數(shù)量也增加了。根據(jù)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),80nm~60nm工藝清洗步驟約100個(gè),20nm~10nm工藝清洗步驟200多個(gè)。由此可見,超純水對芯片來說是多么重要。

  全自動(dòng)雙級反滲透+EDI超純水系統(tǒng)+拋光混床是目前常用的超純水處理技術(shù),EDI超純水系統(tǒng)是超純水生產(chǎn)設(shè)備的重要組成部分。到目前為止,一些廠家仍然使用混床生產(chǎn)超純水?;齑渤兯到y(tǒng)優(yōu)點(diǎn)是前期投資少。但是,EDI超純水系統(tǒng)的突出性能優(yōu)勢是無法替代的。與混床相比,在相同流量處理能力的情況下,EDI超純水系統(tǒng)占地面積要小得多,約為混床的1/10。這種對用戶友好的設(shè)計(jì)是通過消除巨大的再生存儲(chǔ)和廢水中和系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)的。

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