国产精品嫩草影院AV,欧美日韩国语动漫一区二区,亚洲精品资源久久,国产熟女高潮精选

<s id="npbhn"><table id="npbhn"><center id="npbhn"></center></table></s>
<source id="npbhn"></source><video id="npbhn"></video>
<source id="npbhn"><menu id="npbhn"></menu></source>

新浪微博|微信關(guān)注|網(wǎng)站地圖

歡迎來到萊特萊德 ? 專業(yè)PPT級(jí)電子級(jí)超純水服務(wù)商
新聞中心
當(dāng)前位置:首頁 > 新聞中心 > 超純水百科

光伏半導(dǎo)體超純水“守護(hù)”清洗工序

2022-07-26

  清洗不僅是半導(dǎo)體制造工藝的重要組成部分,也是影響半導(dǎo)體器件成品率的重要因素之一。清洗是晶圓加工和制造過程中的一個(gè)重要部分。為了將雜質(zhì)對(duì)芯片成品率的影響降低,在實(shí)際生產(chǎn)過程中,不僅要保證單次清洗的效率,而且要在幾乎所有工藝前后進(jìn)行頻繁的清洗。它是單晶硅晶片制造、光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵工藝中必不可少的環(huán)節(jié)。

  1、在硅片制造過程中,需要對(duì)拋光硅片進(jìn)行清洗,以保證其表面平整度和性能,從而提高后續(xù)加工的成品率。

  2、在晶圓制造過程中,需要在光刻、蝕刻、離子注入、脫膠、成膜、機(jī)械拋光等關(guān)鍵工序前后對(duì)晶圓進(jìn)行清洗,以去除晶圓污染的化學(xué)雜質(zhì),降低缺陷率,提高成品率。

  3、在芯片封裝過程中,需要根據(jù)封裝工藝對(duì)芯片進(jìn)行TSV(硅穿孔)清洗、UBM/RDL(凸點(diǎn)底部金屬/膜重分布技術(shù))清洗和鍵合清洗。

  在進(jìn)入每個(gè)工藝之前,硅片表面必須清潔,清潔步驟必須重復(fù)多次,以去除表面上的污染物。芯片制造需要在無塵室內(nèi)進(jìn)行。在芯片制造過程中,任何污染都會(huì)影響芯片上器件的正常功能。污染雜質(zhì)是指半導(dǎo)體制造過程中引入的任何物質(zhì),這些物質(zhì)會(huì)危及芯片的產(chǎn)量和電氣性能。具體污染物包括顆粒物、有機(jī)物、金屬和天然氧化層。這些污染物包括來自環(huán)境、其他制造工藝、蝕刻副產(chǎn)品、研磨液等。如果不及時(shí)清除上述受污染的雜質(zhì),可能導(dǎo)致后續(xù)工藝失敗,導(dǎo)致電氣故障,導(dǎo)致芯片報(bào)廢。

  根據(jù)世界半導(dǎo)體貿(mào)易統(tǒng)計(jì)協(xié)會(huì)(WSTS)發(fā)布的預(yù)測報(bào)告,由于對(duì)芯片的強(qiáng)勁需求,今年全球半導(dǎo)體銷售額將大幅增長。預(yù)計(jì)將增長19.7%至5272.23億美元,遠(yuǎn)高于2020年12月預(yù)計(jì)的4694.03億美元(年增長8.4%)。

  隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展,對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、DO和顆粒物的要求越來越嚴(yán)格。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高,因此半導(dǎo)體行業(yè)的超純水與其他行業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水有極其嚴(yán)格的水質(zhì)要求。目前,中國常用的超純水標(biāo)準(zhǔn)有國家標(biāo)準(zhǔn)《電子級(jí)水》(GB/T 11446.1-2013)和美國標(biāo)準(zhǔn)《電子和半導(dǎo)體行業(yè)用超純水指南》(ASTM-D5127-13)。美國標(biāo)準(zhǔn)對(duì)指標(biāo)要求更嚴(yán)格。

  在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中,硼是一種P型雜質(zhì)。過量會(huì)使N型硅反轉(zhuǎn),從而影響電子和空穴的濃度。因此,在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。電子和半導(dǎo)體工業(yè)用超純水標(biāo)準(zhǔn)指南(ASTM-D5127-13)要求硼離子≤ 0.05 in e1.3μg/L。如果硼離子含量能夠達(dá)到較低的指標(biāo),則必然會(huì)改善半導(dǎo)體的性能。

  半導(dǎo)體超純水工藝中Huncotte系統(tǒng)選用核級(jí)樹脂,可通過獨(dú)特的靶向離子交換樹脂有效控制系統(tǒng)出水的硼離子含量。采用IPC-MS檢測硼離子含量,并對(duì)硼離子流出物進(jìn)行分析≤ 0.005μG/L遠(yuǎn)低于硼離子的要求≤ ASTM-D5127-13標(biāo)準(zhǔn)中E1.3中的0.05μg/L。我們相信更高質(zhì)量的超純水可以給半導(dǎo)體帶來更好的性能,給半導(dǎo)體企業(yè)帶來更強(qiáng)的優(yōu)勢。

 

相關(guān)新聞
友情鏈接:

石料生產(chǎn)線 洗石機(jī)設(shè)備 焊接式球閥 鹽霧腐蝕試驗(yàn)設(shè)備 貼面熱壓機(jī) 自動(dòng)擰螺絲機(jī) 海水淡化 一體化污水處理設(shè)備 垃圾滲濾液處理 中水回用 零排放 脫硫廢水處理