工業(yè)生產(chǎn)中常常會使用到超純水來對一些特定的工業(yè)產(chǎn)品進行清洗,比如硅晶圓、電子芯片、光纖、二極管等。這是因為超純水純度高,成分比較單一,除了氫原子和氧原子之外,幾乎不含有有機物、無機鹽、金屬離子等成分,更不含細(xì)菌和病毒等物質(zhì),因而不會對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。要想獲取到質(zhì)量好的超純水,就需要采用專業(yè)的工業(yè)超純水設(shè)備生產(chǎn)。
工業(yè)超純水設(shè)備的技術(shù)設(shè)計好、環(huán)保性能強,已經(jīng)獲得了很多超純水需求企業(yè)的認(rèn)可。工業(yè)超純水設(shè)備采用了“反滲透+EDI+拋光混床”技術(shù),可使生產(chǎn)出的超純水水質(zhì)達到18MΩ*cm(25℃)。
其中,反滲透處理模塊主要是依靠反滲透膜技術(shù)對不同分子量的物質(zhì)的選擇透過性來實現(xiàn)超純水處理中的雜質(zhì)分離去除環(huán)節(jié)。反滲透膜的孔徑很小且運行簡單,只需要在進水一側(cè)加壓驅(qū)動就可以促使過濾發(fā)生,這個過程無須熱能和催化劑,在常溫物理狀態(tài)下就能完成。經(jīng)過反滲透膜的處理,離子與有機物、細(xì)菌、微生物等物質(zhì)基本都能與水分子分離。
EDI模塊處理過程中安全性能高,它能使工業(yè)超純水設(shè)備的脫鹽率大幅提高,且運行中不會產(chǎn)生污染物和酸堿廢液,環(huán)保性能很強。拋光混床技術(shù)是工業(yè)超純水設(shè)備的末端工藝,最終確保了該設(shè)備出水達到18MΩ*cm(25℃)。
工業(yè)超純水設(shè)備采用了獨有的靶向離子交換系統(tǒng),能針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除,還裝配了智能化程序,操作簡單靈活、自動化程度高,可以有效節(jié)約人工力量的投入。此外,該設(shè)備故障率也比較低、使用壽命比傳統(tǒng)設(shè)備都要長。
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